- Intelligence artificielle et machine learning pour les plasmas froids et lasers
- Interactions plasma/laser-liquide
- Recrutements sur des postes académiques.
› Plasma characterization during etching of V2O3 materials - TATIANA CHANCELLE MBOUJA SIGNE, Institut des Matériaux Jean Rouxel - Cédric MANNEQUIN, Institut des Matériaux Jean Rouxel - Aurélie GIRARD, Institut des Matériaux Jean Rouxel - Christophe Cardinaud, Institut des Matériaux Jean Rouxel
16:55-18:30 (1h35)