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Plasma characterization during etching of V2O3 materials
1 : Institut des Matériaux Jean Rouxel
Centre National de la Recherche Scientifique, Nantes université - UFR des Sciences et des Techniques
| Type : | : | Préférence : Poster "Jeunes" |
| Thématiques | : | Plasmas basse pression |
| Thématiques | : | Session - Posters |
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