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Modélisation d'un plasma Cl2/Ar pour la gravure du GaN par ALE
1 : Nantes Université
Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN)
2 : ST Microélectronics
ST Microelectronics (TOURS)
| Type : | : | Préférence : Oral "Jeunes" |
| Commentaire | : | Soumission d'abstract : - premier choix oral - second choix poster |
| Thématiques | : | Plasmas basse pression |
| Thématiques | : | Modélisation |
| Thématiques | : | Session - Oraux |
| Thématiques | : | Session - Posters |
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